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ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術　成膜技術と膜・界面のの物性科学　NTS

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ニコンら，噴霧により透明導電性薄膜を成膜 | OPTRONICS ONLINE オプトロニクスオンライン

絶縁体界面に生じる金属層の発生メカニズムを解明（酸化物エレクトロニクスにおける新素子実現に向けて）

独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT技術ジャーナル

高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術の研究開発 | 有限会社渕田ナノ技研 | Go-Techナビ

界面電子物理学 - 岡山大学大学院環境生命自然科学研究科

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ニコンら，噴霧により透明導電性薄膜を成膜 | OPTRONICS ONLINE オプトロニクスオンライン,絶縁体界面に生じる金属層の発生メカニズムを解明（酸化物エレクトロニクスにおける新素子実現に向けて）,独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT技術ジャーナル,高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術の研究開発 | 有限会社渕田ナノ技研 | Go-Techナビ,界面電子物理学 - 岡山大学大学院環境生命自然科学研究科

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